Высоковакуумная эвтектическая печь KD-V20

Высоковакуумная эвтектическая печь KD-V20 представляет собой новейший класс высоковакуумных эвтектических печей, предназначенных для оплавления паяльных паст и преформированного припоя в бескислородной среде, вакууме, парах азота или муравьиной кислоты. Отличаются универсальностью, высокой эффективностью, полным технологическим процессом, улучшенной системой защиты, просты в эксплуатации и обслуживании.

Кроме того, печь оснащена мощной камерой видеонаблюдения, которая позволяет следить за процессом оплавления в реальном времени, а многоканальная система контроля температуры может синхронно отображать температурные кривые в реальном времени и степень разрежения, а также записывать и отображать данные одновременно. Мощная база данных технологических процессов поможет вам найти оптимальный режим пайки, а оператор освоит процесс работы оборудования и его настройку в кратчайшие сроки. Программное обеспечение печи может собирать и анализировать данные, относящиеся к изменяющимся производственным процессам, а также осуществлять мониторинг и анализ сварочных изделий.

Особенности: 

• Идеальное оборудование для силовых изделий микроэлектроники, IGBT модулей, LED систем, ВЧ модулей. 
• Оборудование оснащено смотровым окном для визуального контроля за процессом пайки в режиме реального времени
•  Установка имеет систему верхнего и нижнего нагрева с высокоточным динамическим контролем температуры и высокой температурной однородностью несущей платформы.
• Высокоскоростной роторно-лопастной вакуумный насос позволяет быстро обеспечить уровень вакуума в камере до 0.1 мбар.
• Система имеет водяное охлаждение для работы в условиях высокотемпературного вакуума.
• Программное обеспечение позволяет осуществлять управление нагревом, настройку профиля рабочего процесса, установку верхней и нижней температуры, регулировку уровня вакуума, контроль за рабочей атмосферой и процессом охлаждением.
• Оборудование позволяет выполнять пайку без применения флюса с рабочей атмосферой из смеси газов H2, N2/H2, HCOOH и т.д.
• Атмосфера внутри рабочей камеры может быть разнообразной: азот (N2), смесь N2/H2, чистый водород (H2), HCOOH с газом-носителем N2, плазма ArH2 для вспомогательных процессов.
• Установка может выполнять непрерывный мониторинг процесса в режиме реального времени и записывать полученные данные, имеется возможность вывода температурной кривой, сохранения параметров рабочего процесса и параметров самого оборудования.
• Система рециркуляции флюса позволяет полностью его востановливать, снижая загрязненее материалов, также устройтво может работать и без использования флюса.
• Обеспечение минимального количества пустот – <3%