Интерферометр лазерный с функцией картографирования для образцов до 300мм (изм. толщина 10нм – 250мкм) - AF-X010

Лазерный интерферометр AF-X010 для измерения тонких плёнок от 10 нм до 250 мкм — это прибор, который использует лазерное излучение для точного измерения толщины тонких слоёв и покрытий.

Принцип работы: лазерный луч отражается от поверхности плёнки и возвращается обратно в прибор. Измеряется разность фаз между исходным и отражённым лучами. Эта разность фаз пропорциональна толщине плёнки.

Основные компоненты лазерного интерферометра:

Источник лазерного излучения: обычно используется лазер с длиной волны 250-1700нм.  

Оптическая система: включает в себя зеркала, линзы и другие оптические элементы для направления и фокусировки лазерного луча на поверхность плёнки.

Детектор: регистрирует отражённый сигнал и измеряет разность фаз.

Электронная система обработки данных: преобразует измеренную разность фаз в значение толщины плёнки.

Прецизионный позиционер: предназначен для перемещения подложки для создания карты распределения толщин.

Преимущества лазерного интерферометра включают высокую точность измерений, возможность работать с тонкими плёнками различной природы и широкий диапазон измерений. Однако для работы с прибором требуется квалифицированный персонал и определённые навыки.

Особенности:

• Измерение тонких слоев в диапазоне от 10нм до 250мкм.
• Возможность измерения многослойных покрытий – до 10 слоев.
• Ультра высокое разрешение – 0.1нм, воспроизводимость 0.2нм.
• Возможность измерения прозрачных и полупрозрачных материалов.
• Сверхвысокая скорость измерения от 100 мс до 1 с на точку.
• Используются дейтеривые или вольфрам-галогеновые лампы с высокой равномерностью интенсивности света и стабильным спектром. 
• Прецизионный механизм перемещения подложки для картографирования распределения толщин.