Установка для удаления защитной ленты с поверхности пластины - DSXUV-WFTM
<
>

Установка для удаления защитной ленты с поверхности пластины - DSXUV-WFTM

Производитель: DSXUV
Страна: Китай
Артикул: DSXUV-WFTM
  • Стоимость
  • По запросу

  • Под заказ

DSXUV-WFTM - устройство предназначенное для удаление пленки с пластин, используемое в процессе подготовки полупроводниковых пластин в полупроводниковой промышленности. В производстве полупроводников пластины обычно изготавливаются из кремния или других материалов и служат основой для изготовления чипов, в процессе подготовки пластина обычно покрывается защитной пленкой для защиты поверхности от загрязнений, повреждений и окисления, при этом данная установка эффективно удаляет данную защитную пленку с поверхности пластины, обеспечивая качество и надежность пластины. Процесс отрыва пленки является одним из важных этапов подготовки полупроводников и играет ключевую роль в успешном выполнении последующих технологических операций.

Размеры пластины чипа: 6"–12"
Толщина пластины: 100–800 мкм
Метод фиксации пластины: Вакуумная абсорбция
Нагрев рабочей пластины: 10–120 °C
Материал рабочей пластины: Алюминий, с тефлоновым покрытием
Отрывная пленка: Синяя пленка, УФ-лента и т.д.
Размеры (ДхШхВ): 433мм × 400мм × 334мм
Вес: 40 кг
Скорость отрыва пленки: 50 с/шт.
Панель управления: Кнопка включения/выключения
Управление: Ручная загрузка и выгрузка, ручной отрыв пленки
Опция: Оповещение о завершении операции
Управление электростатикой: Keyence снимает статическое электричество вентилятором, контролирует электростатическое напряжение <100 В в установке и во время процесса отрыва пленки
Совместимость: Поддержка шлифования тонких пластин размером 6"–12" на нескольких столах