Система PECVD плазмохимического осаждения из газовой фазы
<
>

Система PECVD плазмохимического осаждения из газовой фазы

Производитель: LabFurnace
Страна: Китай
Артикул: PECVD1100-6Z
  • Стоимость
  • По запросу

  • Под заказ

Плазмохимическое осаждение из газовой фазы позволяет использовать высокоэнергетическую плазму для ускорения, эффективного увеличения скорости и снижения температуры процесса реакции.

Оборудование отлично подходит для нанесения тонких пленок из нитрида кремния, аморфного и микрокристаллического кремния на различные подложки, такие как оптическое стекло, кремний, кварц и нержавеющая сталь. Установка обладает хорошими пленкообразующими свойствами и получила широкое применение в производстве тонкопленочных солнечных элементов. Систему также применяют в научных исследованиях, в том числе для изготовления небольших партий тонкопленочных материалов в университетах и ​​научно-исследовательских институтах.


RF ГЕНЕРАТОР ПЛАЗМЫ:
Частота: 13.56 МГц
Диапазон выходной мощности: 0~500 Вт
Макс. отраженная мощность: 100 Вт
Отраженная мощность (при макс. мощности): <5 Вт
Стабильность мощности: ±0.1%
КАМЕРА НАГРЕВА:
Температура нагрева: RТ-1000℃
Точность контроля температуры: ±1℃
Держатель образцов: Ø200 мм
Скорость вращения держателя образца: 1-20 об/мин (регулируется)
Размер распылительной головки: Ø90 мм
Расстояние между распылительной головкой и образцом: 40-100 мм (плавно регулируется)
Рабочий вакуум для осаждения: 0.133-133Па (регулироваться)
Фланец: Верхний фланец можно поднять с помощью двигателя, подложку легко заменяется, имеется смотровое окно
Рабочая камера: Камера изготовлена из нержавеющей стали размером Ø500 мм х 500 мм
Смотровое окно: наблюдения
СИСТЕМА ПОДАЧИ ГАЗА:
Измерительный блок: Регулятор массового расхода
Кол-во каналов: 6
Канал A: 0~200 sccm для H2
Канал B: 0~200 sccm для CH4
Канал C: 0~200 sccm для C2H4
Канал D: 0~500 sccm для NH3
Канал E: 0~500 sccm для N2
Канал F: 0~500 sccm для Ar
Точность измерения: ±1.5% полной шкалы
Разница рабочего давления: -0.15 МПа ~ 0.15 МПа
Материал соединительной трубки: Нержавеющая сталь 304
Газовый канал: Игольчатый клапан из нержавеющей стали 304
Соединительный порт: Разъем с наконечником 1/4" для подачи и выхода газа
ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА:
Форвакуумный насос: 4.7 л/с
Молекулярный насос: 1200л/с
Измерение вакуума: Составной вакуумметр, диапазон 10^-5Па ~ 10^5Па
Степень вакуума: 5.0х10^-3Па
ВОДЯНОЙ ЧИЛЛЕР:
Температура охлаждающей воды: ≦37℃
Водный поток: 10л/мин
Мощность: 0.1 кВт
Мощность охлаждения: 50 Вт/℃
Электропотребление всей установки: 220 В, перем. ток , 50 Гц
Гарантия: Один год ограниченной гарантии