изображение Система очистки фотошаблонов ТWC-300
Новинка
Производитель: 
Technovision
Страна: 
Япония
Артикул: 
TWC-300
Стоимость: 
по запросу
Под заказ
TWC-300 - система очистки фотошаблонов (фотомасок), производящая полное удаление остатков фоторезиста и частиц, размер которых больше 1 мкм. Эффективность очистки также обусловлена учитыванем типа загрязнения и соответствующим химичесикм сосатвом жидкости. Таким образом, после очистки фотошаблона возможно проведение более качественного экспонирования.
 
Процесс очистки:
  • Удаление резиста с помощью химического раствора с нагревом или без;
  • Отмывка деионизированной водой;
  • Удаление частиц с использованием мягкой чистки или нет;
  • Отмывка деионизованной водой;
  • Сушка с помощью воздушной завесы.
  
Особенности TWC-300:
  • Полное удаление резиста и его составляющих с фотошаблона;
  • Удаление загрязняющих частиц размером больше 1 мкм;
  • Немедленное использование фотошаблона после очистки ;
  • Химические реактивы экологически чисты и оказываю "мягкое" воздействие на фотошаблон;
  • При отмывке не используются серная кислота и перекись;
  • Поверхность фотошаблона не подвергается деструктивным воздействиям;
  • Компактный размер.