- Производитель:
- Technovision
- Страна:
- Япония
- Артикул:
- TWC-300
- Стоимость:
- по запросу
TWC-300 - система очистки фотошаблонов (фотомасок), производящая полное удаление остатков фоторезиста и частиц, размер которых больше 1 мкм. Эффективность очистки также обусловлена учитыванем типа загрязнения и соответствующим химичесикм сосатвом жидкости. Таким образом, после очистки фотошаблона возможно проведение более качественного экспонирования.
Процесс очистки:
- Удаление резиста с помощью химического раствора с нагревом или без;
- Отмывка деионизированной водой;
- Удаление частиц с использованием мягкой чистки или нет;
- Отмывка деионизованной водой;
- Сушка с помощью воздушной завесы.
Особенности TWC-300:
-
Полное удаление резиста и его составляющих с фотошаблона;
-
Удаление загрязняющих частиц размером больше 1 мкм;
-
Немедленное использование фотошаблона после очистки ;
-
Химические реактивы экологически чисты и оказываю "мягкое" воздействие на фотошаблон;
-
При отмывке не используются серная кислота и перекись;
-
Поверхность фотошаблона не подвергается деструктивным воздействиям;
-
Компактный размер.